PECVD – Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition, plazmatické napařování tenkých vrstev z plynné fáze na pevný substrát. V důsledku chemických reakcí v plazmatu elektrického výboje dochází k usazování požadované sloučeniny na substrát. Například pro vytvoření vrstvy oxidu křemičitého hoří výboj ve směsi silanu a kyslíku.

Zpět  Glosář

---